[发明专利]一种非易失性闪存器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010274119.3 申请日: 2020-04-09
公开(公告)号: CN111463213A 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 王奇伟;张金霜;陈昊瑜;邹荣;李娟娟 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521;H01L27/11531
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐伟
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种非易失性闪存器件及其制备方法。上述非易失性闪存器件至少包括存储区域的存储单元,上述制备方法包括:提供衬底,对上述衬底定义上述非易失性闪存器件的存储区域;在对应上述存储区域的衬底上形成上述存储单元的堆叠栅极,上述堆叠栅极的顶部为上述存储单元的存储控制栅极;以填充在多个存储单元的堆叠栅极之间的流动性光刻胶为掩膜,刻蚀上述存储控制栅极以降低上述存储控制栅极的高度;以及去除上述流动性光刻胶。根据本发明所提供的制备方法所形成的非易失性闪存器件,其存储单元的控制栅极的高度交底,能够在有效存储单元栅极之间的层间绝缘层的填充质量的同时,保证存储单元的电特性能。
搜索关键词: 一种 非易失性 闪存 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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