[发明专利]光刻胶涂布系统及方法有效
| 申请号： | 202010275680.3 | 申请日： | 2020-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN111570150B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;杨涛;李俊峰;王文武 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B05B13/04 | 分类号： | B05B13/04;B05B15/555;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 付婧 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻胶涂布系统及方法，该光刻胶涂布系统包括：控制装置；第一泵，与所述控制装置电连接；喷头装置，包括公共臂和设置在所述公共臂上的多个喷嘴，所述公共臂与所述控制装置相连接，所述喷嘴与所述第一泵相连接；喷嘴清洗筒，用于清洗所述喷嘴；多个光刻胶盛筒，用于盛放光刻胶以供所述喷嘴吸取。本申请的光刻胶涂布系统，在需要更换光刻胶时，控制喷嘴插入喷嘴清洗筒内清洗后再吸取另一种光刻胶，实现了同一喷嘴可以快速更换不同光刻胶进行涂布的技术效果，操作简单，节省了工序，提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂布 系统 方法 | ||
【主权项】：
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