[发明专利]一种剥离铝青铜合金中双层氧化膜缺陷的方法有效
| 申请号： | 202010276427.X | 申请日： | 2020-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN111487267B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 宋和谦;孙剑飞;曹福洋;宁志良;黄永江;彭德林 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G01N23/20008 | 分类号： | G01N23/20008;G01N23/20091;C25F1/04 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 岳泉清 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种剥离铝青铜合金中双层氧化膜缺陷的方法，本发明涉及剥离双层氧化膜缺陷的方法。本发明要解决现有对双层氧化膜缺陷的研究都是建立在拉伸断口表面的观察上，效率低下，不具有可重复性，且对于缺陷的成分分析也受到铝青铜基体影响的问题。方法：一、试样加工；二、电解；三：酸洗；四、清洗；五、沉积。本发明用于剥离铝青铜合金中双层氧化膜缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 剥离 青铜 合金 双层 氧化 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
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