[发明专利]一种基板的曝光方法及加工方法在审
| 申请号： | 202010282240.0 | 申请日： | 2020-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN111273522A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 张柯;李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明一种基板的曝光方法及加工方法，所述基板上涂覆有油墨层，所述油墨层上覆盖有保护层，曝光光源的光线穿过所述保护层对所述油墨层进行曝光。加工方法包括如下步骤：（1）在基板上涂覆油墨层；（2）对所述油墨层进行前烘；（3）根据上述曝光方法对基板进行曝光；（4）曝光完成后去除油墨层上的保护层；（5）进行显影操作。通过在基板的油墨层上增加一层保护层，使得在对油墨层进行曝光的过程中，所述油墨层可以隔绝氧气，实现提高油墨层的光泽度的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 加工 | ||
【主权项】：
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