[发明专利]一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石及其制备方法在审
| 申请号： | 202010286514.3 | 申请日： | 2020-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN111470847A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 卢伟佳;张宏辉;张俊 | 申请（专利权）人： | 亚细亚建筑材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B33/13 | 分类号： | C04B33/13;C04B33/16;C04B33/132;C04B41/89;C03C8/00 |
| 代理公司： | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 200333 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及大理石加工技术领域，尤其涉及一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石及其制备方法。本发明提供的方法包括以下步骤：制备幻彩坯体；在幻彩坯体上设置超白坯体；在超白坯体上设置面釉，得到面釉层；将大理石图案打印在面釉层上，得到图案层；将负离子钻石釉设置在图案层上面，得到钻石釉层。本发明在传统大理石基础上采用新型坯体以及富含负离子的钻石釉，搭配起来可以使产品图案透明度更加逼真，得到立体感强的功能大理石，而且产品能够释放负离子改善居室内的环境，更适合人员居住。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双层 柔光 大理石 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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