[发明专利]一种微波等离子体化学气相沉积设备及其制备方法在审
申请号: | 202010286797.1 | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN111501011A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 范杰;黄翀 | 申请(专利权)人: | 长沙新材料产业研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511;H01P1/16 |
代理公司: | 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙) 42235 | 代理人: | 李恭渝 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明涉及微波等离子体化学气相沉积领域,通过改善微波等离子体化学气相沉积设备设计,改良微波天线的设计,可以有效提升微波等离子体化学气相沉积设备的长期使用的稳定性,减少了在生产过程中的不稳定性,有利于提高产品质量。特别是对于在生产过程中对于温度稳定性要求高的产品,如金刚石,该设备能有效提高产品的品质,提升其经济价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 化学 沉积 设备 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的