[发明专利]曝光装置及其性能评价方法在审
| 申请号： | 202010294095.8 | 申请日： | 2020-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN112540510A | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 长谷川祐哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 朱丽娟;崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供曝光装置及其性能评价方法。课题在于在曝光装置中，同时评价多个评价项目。在曝光装置中，使条状图案光(PL1～PL3)排列而成的图案列(PT)透过狭缝(ST)。此时，将图案列(PT)的图案间隔(PP)、图案宽度(PW)、狭缝(ST)的狭缝宽度(SP)形成为使得谷部分(V)得到平坦的光量分布波形(AT)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 性能 评价 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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