[发明专利]适于远程等离子体清洗的反应腔室、沉积设备及清洗方法

摘要

本发明公开了一种适于远程等离子体清洗的反应腔室、沉积设备及清洗方法，其中反应腔室包括：腔室主体；加热基座，加热基座设于腔室主体内；环形支撑部件，环形支撑部件环绕于加热基座的外周，环形支撑部件面向加热基座的表面为内表面，背向加热基座的表面为外表面，外表面的粗糙度大于内表面的粗糙度，环形支撑部件的材质为陶瓷；气体匀流栅，气体匀流栅设置于环形支撑部件上，且位于加热基座的上方。沉积设备包括：上述的反应腔室；等离子体清洗源腔室；清洗管路，清洗管路连通于等离子体清洗源腔室和反应腔室之间；气源管路，气源管路连通于清洗管路。本发明的有益效果在于，能够解决清洗腔室时造成反应腔室内部的结构组件损伤的问题。