[发明专利]液体辅助研磨调控申嗪霉素晶型的方法有效
| 申请号： | 202010300086.5 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN111440125B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 陈巍;吴迪;侯宝红;张蓓;朱华祥;龚俊波;周丽娜;鲍颖;谢闯;张美景 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C07D241/46 | 分类号： | C07D241/46 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明涉及液体辅助研磨控制申嗪霉素晶型的方法；将具有强路易斯碱或π共轭体系的有机溶剂A与申嗪霉素原料在振动球磨仪，液相辅助研磨，干燥，制备申嗪霉素Cc晶型；将不具有π共轭基团的链状有机溶剂B与申嗪霉素原料在振动球磨仪，液相辅助研磨，干燥，制备申嗪霉素P21/n晶型。研磨球直径为3‑5mm；研磨频率为2‑10次/秒，研磨时长为20‑80分钟。采用高效液相色谱法(HPLC)测定本发明申嗪霉素纯度，制备Cc晶型产品纯度在96.1％‑96.3％之间；制备的P2 |
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| 搜索关键词： | 液体 辅助 研磨 调控 霉素 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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