[发明专利]气相反应器系统和其使用方法在审
| 申请号： | 202010303963.4 | 申请日： | 2020-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN111863581A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | J.托尔;J.马杰蒂斯 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/06;C23C16/24;C23C16/30;C23C16/32;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了适合与在常温常压下为固相的前体一起使用的气相反应器系统和方法。如本文中所描述的系统和方法可用于例如在衬底的表面上形成非晶、多晶或外延层(例如，一个或多个掺杂半导体层)。 | ||
| 搜索关键词： | 相反 系统 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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