[发明专利]一种多孔金属复合透明导电薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202010304908.7 | 申请日: | 2020-04-17 |
公开(公告)号: | CN111477382A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 刘宏燕;颜悦;彭晶晶 | 申请(专利权)人: | 中国航发北京航空材料研究院 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G02B1/116 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 陈宏林 |
地址: | 100095 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是一种多孔金属复合透明导电薄膜及其制备方法,该导电膜包括一个透明基底(1),在透明基底(1)的一侧或两侧表面上依次制备保护性减反射金属氧化物层(2)、多孔金属导电层(3)和另一个保护性减反射金属氧化物层(2),多孔金属导电层(3)被布置在两个保护性减反射金属氧化物层(2)之间。所述保护性减反射金属氧化物层(2)采用磁控溅射的方法制备,多孔金属导电层(3)采用掩模法制备,其中掩模材料为聚酰亚胺球,该聚酰亚胺球的直径为25~400纳米。本发明提供的这种复合透明导电膜,具有较高的透过率和电导率,同时具有较好的耐环境性能,不易氧化,不易脱落。此外,这种导电膜还具有防紫外线和隔热的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 多孔 金属 复合 透明 导电 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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