[发明专利]功率半导体在审

专利信息
申请号: 202010307253.9 申请日: 2020-04-17
公开(公告)号: CN111863741A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 柯作同;柯心睿;廖光明;廖振宇 申请(专利权)人: 柯作同;柯心睿;廖光明;廖振宇
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/48;H01L23/485;H01L23/492
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 林祥翔;徐剑兵
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明的功率半导体包括一闸极、一源极、一硅芯片及一汲极。其中,源极包括一第一铜颗粒层及一第一金属层,第一铜颗粒层覆盖第一金属层的上方表面。硅芯片接合于第一金属层的下方表面。汲极接合于硅芯片的下方表面。其中,第一铜颗粒层的厚度大于第一金属层的厚度。
搜索关键词: 功率 半导体
【主权项】:
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