[发明专利]一种化学气相沉积装置与方法在审
申请号: | 202010309904.8 | 申请日: | 2020-04-20 |
公开(公告)号: | CN111647879A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 祝巍;马萍萍 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C23C16/503 | 分类号: | C23C16/503;C23C16/26;C23C16/30;C23C16/28 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李伟 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种化学气相沉积装置,包括反应腔体、阴极、阳极、电源、反应衬底、机械泵、加热装置和冷却装置;本申请还提供了利用化学气相沉积装置进行化学气相沉积的方法。本发明在化学气相沉积反应中直接采用直流辉光引入等离子体,一方面可以大幅提高化学气相沉积的效率,降低反应温度,降低成本,提高品质等;另一方面利用直流辉光产生等离子体既直接作用于反应区域,成本又低。因此本发明不仅适合于研究化学气相反应的机制,也适用于大规模生产,特别是石墨烯的生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的