[发明专利]一种狭缝聚焦型超高真空运行的磁偏转电子束蒸发源有效
| 申请号： | 202010312179.X | 申请日： | 2020-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN111471968B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 阿力甫·库提鲁克;李浩;梅新灵;谢斌平 | 申请（专利权）人： | 费勉仪器科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 上海国瓴律师事务所 31363 | 代理人： | 傅耀 |
| 地址： | 201900 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种狭缝聚焦型超高真空运行的磁偏转电子束蒸发源，包括蒸发区和电子发射区，所述蒸发区包括坩埚(2)，所述电子发射区包括直通腔体(5)、电子枪(11)和主磁场(9)，所述电子发射区和所述蒸发区之间通过直通腔体上端法兰与蒸发区下端法兰连接，所述蒸发区下端法兰与所述直通腔体上端法兰之间设置有隔离板(12)；所述坩埚(2)设置在所述隔离板(12)上；所述隔离板(12)上设置有聚焦通孔(1)；所述聚焦通孔(1)包括磁铁基座(13)与多块偶数片磁铁(14)。本发明的有益效果是：大幅度消除高温环境下由于材料表面逸放出的杂质成分气体及轻元素对薄膜纯度以及蒸发源性能及其寿命的影响，从而提高蒸发源性能与寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 狭缝 聚焦 超高 真空 运行 偏转 电子束 蒸发 | ||
【主权项】：
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