[发明专利]一种适用于光学散射测量的特征选择方法在审
| 申请号： | 202010319290.1 | 申请日： | 2020-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN111553064A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 刘世元;李旷逸;石雅婷;陈修国;王鹏 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F16/903;G06N3/00;G06N3/12 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明属于光学散射测量相关技术领域，其公开了一种适用于光学散射测量的特征选择方法，所述方法包括以下步骤：(1)根据半导体工艺确定待测结构的纳米结构形貌、待测关键尺寸及材料光学常数；(2)构建待测结构的纳米结构正向光学特性模型；(3)划分稀疏网格X |
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| 搜索关键词： | 一种 适用于 光学 散射 测量 特征 选择 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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