[发明专利]一种化学气相沉积炉的料柱压力调节装置在审
申请号: | 202010322422.6 | 申请日: | 2020-04-22 |
公开(公告)号: | CN111519162A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 崔鹏;李培元;邢少敏 | 申请(专利权)人: | 西安航空制动科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/52;C23C16/455;C04B35/83 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 王世磊 |
地址: | 710075 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种化学气相沉积炉的料柱压力调节装置。料柱压力调节装置包括:设置有通孔的石墨盖板以及放置于通孔内的石墨球;石墨盖板设置于与进气方向相对一端的料柱端部,石墨盖板的通孔包括远离料柱一端为圆柱形孔和接近料柱的一端为锥形孔,石墨球设置于锥形孔内,且石墨球的底面与锥形孔的孔壁紧贴;料柱压力调节装置,被配置为料柱的压力大于压力阈值时,石墨球被顶起使得石墨球与锥形孔分离开,料柱中的部分气体从压力调节装置中排出。本发明实施例解决了现有制造碳刹车盘的方式,工艺过程中由于未沉积的热解碳的积聚引起料柱压力过大,且无法释放料柱压力,在预制体表面形成碳黑,从而严重影响碳刹车盘性能的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 压力 调节 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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