[发明专利]一种高纯铜旋转靶材表面处理的方法在审
| 申请号： | 202010323698.6 | 申请日： | 2020-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN111331518A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;祝龙飞 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/06 | 分类号： | B24C1/06;B24C9/00;B24C11/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高纯铜旋转靶材表面处理的方法，所述方法包括：将高纯铜旋转靶材进行遮蔽处理，遮蔽处理完成后进行喷砂；其中，所述喷砂完成后靶材表面的粗糙度为Rz35‑65μm；所述遮蔽处理为采用胶带将高纯铜旋转靶材的两端头溅射面和侧边进行遮蔽。通过该方法处理后旋转靶材两端头表面喷砂后色泽一致，表面粗糙度均匀并得到提高，无污渍等杂质，提高对靶材溅射过程中反溅射物的吸附能力，改善靶材镀膜质量及提高良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 旋转 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
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