[发明专利]双源角度分辨式X射线衍射分析与断层成像耦合装置在审

专利信息
申请号: 202010330055.4 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111380883A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 蔡吉庆;陈镐;王鹍;常丁月;王欢;陈发;唐涛;张鹏程 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院材料研究所
主分类号: G01N23/20008 分类号: G01N23/20008;G01N23/046
代理公司: 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) 51239 代理人: 杨佳丽
地址: 621700 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种双源角度分辨式X射线衍射分析与断层成像耦合装置,包括第一X射线源、第一探测器、第一准直器、样品放置台、测角仪、第二准直器、第二探测器、第二X射线源和计算机控制系统。本发明通过合理的结构及流程设计,将X射线衍射分析技术与计算机断层成像技术相结合,并利用硬件结构和信息数据耦合的方式,在一套装置上同时实现了衍射分析与计算机断层成像的功能,如此不仅拓展了现有技术的应用场景,更加灵活、全面地满足了实际应用的需求;而且通过上述方式,本发明能够实现材料内部夹杂物或第二相的原位物相分析以及颗粒相的分布均匀性检测,进而解决均匀物质中的夹杂物原位物相分析及多相材料中特定区域的物相分析等检测难题。
搜索关键词: 角度 分辨 射线 衍射 分析 断层 成像 耦合 装置
【主权项】:
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