[发明专利]一种基于纳米压印光刻的双面金属转印方法及相关装置在审
| 申请号： | 202010331833.1 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN111399337A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 王亮;杨目奕;许凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆宗力 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法、柔性检测器及电子设备，包括：提供第一刚性衬底和第二刚性衬底，第一刚性衬底的压印表面具有第一金属图案层，及第二刚性衬底的压印表面具有第二金属图案层；放置一柔性衬底至第一刚性衬底和第二刚性衬底之间；调整第一金属图案层和第二金属图案层对准后，将第一刚性衬底和第二刚性衬底与柔性衬底压合固定；固化液体胶层为粘接层；分离第一刚性衬底与第一金属图案层，及分离第二刚性衬底与第二金属图案层，第一金属图案层通过粘接层固定在柔性衬底的第一表面，及第二金属图案层通过粘接层固定在柔性衬底的第二表面，实现了基于纳米压印光刻的双面金属图案转印的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 纳米 压印 光刻 双面 金属 方法 相关 装置 | ||
【主权项】：
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