[发明专利]一种氧化铁/氧化亚铜光电薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010332617.9 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111545204A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 张娜;徐晨;王航;刘志福;房永征;刘玉峰 申请(专利权)人: 上海应用技术大学
主分类号: B01J23/745 分类号: B01J23/745;B01J37/10;B01J37/34;C25B11/06;C25B1/04
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 徐俊;吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种氧化铁/氧化亚铜光电薄膜的制备方法,其特征在于,将铁片分别在丙酮、乙醇、去离子水中超声,然后在氨水中进行电刻蚀;将铁片浸没于Fe3+前驱体溶液中,水热成膜反应,然后恒温煅烧得到Fe2O3薄膜附着的铁片;以Cu2+的前驱体溶液作为电解液,进行电沉积,以所得铁片作为阴极,铂丝作为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,在水浴中,在所得的铁片的Fe2O3薄膜上进行恒电压电沉积即可。二者通过形成Z‑scheme,促进光生电子和光生空穴分离,此类薄膜的在10mA·cm‑2时具有230mV的低过电势,二氧化碳转换效率最高可达16.92%,光解水的速度最高可达120mmol/L·h。
搜索关键词: 一种 氧化铁 氧化亚铜 光电 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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