[发明专利]多晶圆堆叠修边方法有效

专利信息
申请号: 202010333740.2 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111430276B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 叶国梁;刘天建 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/60;H01L21/50
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种多晶圆堆叠修边方法,对第i片晶圆切边、与第i‑1片晶圆键合减薄后,对堆叠的i片晶圆的边缘区域修边形成边缘良好的晶圆堆叠;之后填充底部填充层;底部填充层的存在使邻近的后续晶圆与堆叠的i片晶圆键合减薄后边缘产生的缺陷往外移,使邻近的后续晶圆的修边宽度设置较小,并为邻近的后续晶圆键合减薄时提供支撑,不至于减薄时劈裂;故对邻近第i片晶圆的后续晶圆的修边宽度不大于背面减薄后的第2片晶圆的边缘修边宽度,可去除邻近第i片晶圆的后续晶圆与堆叠的i片晶圆键合减薄后边缘产生的缺陷。Wdi≤Wd2,所有晶圆处理过程中的修边均限制在Wd2的范围内,减少晶圆修边宽度,提高晶圆有效面积。
搜索关键词: 多晶 堆叠 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010333740.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top