[发明专利]一种成虚像光学系统的成像质量检测装置及方法有效
申请号: | 202010334514.6 | 申请日: | 2020-04-24 |
公开(公告)号: | CN111366338B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 马冬林;莫言;朱正波;许汪洋 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种成虚像光学系统的成像质量检测装置及方法,属于光学领域,所述装置包括:显示屏,待检测成虚像系统,平板透镜,接收装置;所述显示屏上的光源依次经过所述待检测成虚像系统、所述平板透镜和所述接收装置;所述显示屏与所述平板透镜之间的夹角α为30°~45°,所述平板透镜与所述接收装置之间的夹角β为30°~45°,且满足α=β;所述显示屏和所述待检测成虚像系统用于形成虚像;所述平板透镜用于将所述虚像转化成实像;所述接收装置用于接收所述实像。通过本发明能够对成虚像光学系统的成像质量进行有效检测,并能够提供相应成像质量的量化标准。 | ||
搜索关键词: | 一种 虚像 光学系统 成像 质量 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010334514.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种芯片封装散热结构及其制备方法
- 下一篇:一种矿井井口防冻系统及防冻方法