[发明专利]一种优化MEEF的光学邻近修正方法

摘要

本发明提供一种优化MEEF的光学邻近修正方法，将原始版图进行OPC修正，截取OPC修正后MEEF超出阈值的版图部分；对截取的版图部分进行pxOPC修正，得到掩模板图形；根据掩模板图形对相应的原始版图部分进行预先修正处理，得到预处理目标层；将预处理目标层进行基于规则和模型的OPC修正，得到最终符合OPC要求的掩模板图层。本发明中的方法通过将原始图形预先分段移动，能够在基于模型的OPC修正中有效促进引导掩模版图形的分段及移动，通过调整预分段及移动参数，使特殊图形在满足模拟图形与目标图形一致的条件下，得到MEEF优化的掩模版图形。