[发明专利]一种基于双代码联合作用的样条轨迹控制指令优化方法有效
| 申请号： | 202010340749.6 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN111487927B | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 朱万强;杨建中;周会成;马林峰;高嵩;张成磊 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G05B19/4097 | 分类号： | G05B19/4097 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智;孔娜 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于数控加工相关技术领域，并公开了一种基于双代码联合作用的样条轨迹控制指令优化方法。该方法包括下列步骤：(a)设定待加工对象的理想加工轨迹，根据设定的理想加工轨迹生成G代码；(b)绘制G代码对应的加工轨迹，以此获得实际加工轨迹，将该实际加工轨迹与所述理想加工轨迹进行比对，获得区别特征，在所述G代码中寻找与所述区别特征对应的代码，即区别特征代码；(c)根据所述区别特征，对于所述区别特征代码进行改写，获得新的加工代码，该新的加工代码使得数控机床的实际加工轨迹与理想加工轨迹相同，至此实现加工轨迹的优化。通过本发明，优化加工轨迹，提高加工精度，减小加工误差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 代码 联合 作用 轨迹 控制 指令 优化 方法 | ||
【主权项】：
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