[发明专利]一种具有高损伤阈值的声光Q开关在审
| 申请号： | 202010341776.5 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN111370987A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 张泽红;毛世平;蒋世义;谢强 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | H01S3/117 | 分类号： | H01S3/117 |
| 代理公司： | 重庆辉腾律师事务所 50215 | 代理人： | 王海军 |
| 地址： | 400060 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及光电子技术领域，涉及一种具有高损伤阈值的声光Q开关，包括底座，所述底座内设置有水冷块，在底座的下部安装有与所述水冷块连通的水嘴，所述水冷块的侧壁上安装有声光介质，所述声光介质上表面设置有焊接层，所述焊接层上安装有换能器，所述换能器的上表面设置有表电极；所述表电极通过匹配网络、温度继电器连接到射频插座；所述声光介质为高纯度融石英或石英晶体，在声光介质的通光面上镀制了短波谱段的减反膜；本发明用高纯度融石英或石英晶体代替氧化碲晶体，能够大幅度提高短波声光Q开关的损伤阈值；采用高纯金或高纯银作为键合层材料能提高声光Q开关承受驱动电功率的能力，提高声光Q开关的衍射效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 损伤 阈值 声光 开关 | ||
【主权项】：
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