[发明专利]金属离子监控系统在审
| 申请号： | 202010342289.0 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN111505096A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 邢中豪;冯秦旭;赵波;梁金娥 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/48 | 分类号： | G01N27/48 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 黎伟 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种金属离子监控系统，包括：采样模块，用于每隔预定时间段，从清洗设备的清洗槽中获取清洗试剂的样品；检测模块，用于通过差分脉冲阳极溶出伏安法检测样品中的金属离子浓度；反馈模块，用于反馈金属离子浓度。本申请通过采样模块每隔预定时间段从清洗设备的清洗槽中获取清洗试剂的样品，检测模块通过差分脉冲阳极溶出伏安法检测样品中的金属离子浓度，反馈模块反馈金属离子浓度，由于每隔预定时间段进行采样检测，且通过耗时较短的差分脉冲阳极溶出伏安法，从而实现了对清洗槽中的清洗试剂的金属离子进行实时监控，降低了晶圆硅损伤的几率，在一定程度上提高了良率。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 离子 监控 系统 | ||
【主权项】：
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