[发明专利]一种整体式大面积副反射面的制造方法有效
| 申请号： | 202010353409.7 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111509399B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 李增科;曹江涛;孙东文;毛贵海;武织才;孙祺;牛传峰;张万才;赵均红;梁谦;李吉康 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十四研究所 |
| 主分类号： | H01Q15/14 | 分类号： | H01Q15/14;H01Q15/16;H01Q19/12 |
| 代理公司： | 河北东尚律师事务所 13124 | 代理人： | 王文庆 |
| 地址： | 050081 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种整体式大面积副反射面的制造方法，属于精密加工技术领域。其主要包括制备副反射面坯料、粗加工副反射面坯料、粗加工副反射面、加固胚料、精加工副反射面、测量和涂覆等主要步骤。本发明方法实现了大面积副反射面的整体制造，有效的保证了曲面精度，提高了结构刚度，减小了副反射面在使用中的变形，具有很强的可操作性，是对现有技术的一个重要改进。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 整体 大面积 反射 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十四研究所，未经中国电子科技集团公司第五十四研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010353409.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
