[发明专利]堆叠结构的平面电容及其制作方法在审
申请号: | 202010355691.2 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111524705A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 李峰;卢星华;陶玉红;周智勇;杨柳 | 申请(专利权)人: | 深圳市峰泳科技有限公司 |
主分类号: | H01G4/38 | 分类号: | H01G4/38;H01G4/008;H01G4/005;H01G4/06;H01G4/18 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 周景 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种堆叠结构的平面电容,包括多层平面电极和多层介质层,多层平面电极相互间隔设置,且相邻两平面电极之间连接介质层形成子电容,多层平面电极与多层介质层相互堆叠形成多个并联的子电容。本发明的堆叠结构的平面电容的电容密度高,面积大,既能保证堆叠结构的平面电容柔软特性,还能降低生产工艺难度,有利于降低生产成本。本发明还涉及一种平面电容的制作方法。 | ||
搜索关键词: | 堆叠 结构 平面 电容 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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