[发明专利]一种化学机械抛光设备的清洗装置有效
| 申请号： | 202010360833.4 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111482901B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 杨圣 | 申请（专利权）人： | 青岛华芯晶电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/007 | 分类号： | B24B53/007;B01D29/03;B01D36/00;B03C1/02 |
| 代理公司： | 安徽盟友知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34213 | 代理人： | 樊广秋 |
| 地址： | 266000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光设备的清洗装置，包括支撑底座，所述支撑底座外部顶端安装有固定支架，所述固定支架内壁顶端安装有所述横向导杆，所述横向导杆外部套接安装有滑环，所述滑环底端安装有固定杆，所述固定杆外部套接安装有活动块，所述固定支架外壁中部安装有所述支撑侧架，所述驱动电机顶端套接安装有活动卡套，所述活动卡套内部套接安装有偏折杆，所述偏折杆顶端与活动块外壁之间通过L型转向板转动连接，本发明通过驱动电机带动活动卡套进行转动，使得偏折杆在活动卡套内部进行滑动，通过L型转向板的转动将活动块在固定杆外部的滑动，从而实现了固定杆底端的打磨头在固定支架内部顶端处的横向导杆处的往复运动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 设备 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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