[发明专利]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头在审
| 申请号： | 202010361456.6 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111364010A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 丁雪苗;赵芝强;赵公魄 | 申请（专利权）人： | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 米晶晶 |
| 地址： | 519040 广东省珠海市金湾*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 镀膜 设备 喷头 | ||
【主权项】：
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