[发明专利]用于改善天线阵列耦合性能的去耦天线罩及其改善方法在审

专利信息
申请号: 202010363095.9 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111430904A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 赵鲁豫;刘洋 申请(专利权)人: 西安朗普达通信科技有限公司
主分类号: H01Q1/42 分类号: H01Q1/42;H01Q1/52
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴
地址: 710000 陕西省西安市沣东新*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于改善天线阵列耦合性能的去耦天线罩及其改善方法,去耦天线罩包括由上到下的表面玻璃纤维层、周期谐振单元结构层、介质基板层;所述周期谐振单元结构层采用多层结构形式,多层周期谐振单元结构层分别印刷在天线罩介质基板层的内表面、外表面,以及中间层;多层周期谐振结构单元层依次级联设计。本发明采用去耦天线罩来改善阵列天线单元之间的耦合性能,通过对天线罩内部的谐振单元尺寸、谐振单元间距以及覆层与阵列天线的高度、天线罩介质基板的介电常数和厚度进行调整,使得在阵列天线上方加载去耦天线罩后,所述原阵列天线的匹配良好。各单元间耦合降低,隔离度提高,增益有所提高,辐射效率增加。
搜索关键词: 用于 改善 天线 阵列 耦合 性能 天线罩 及其 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安朗普达通信科技有限公司,未经西安朗普达通信科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010363095.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top