[发明专利]光罩、基板及其制备方法在审
申请号: | 202010364719.9 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN113671787A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 张礼冠;许建勇;田舒韵 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G09F9/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘宁 |
地址: | 330100 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明涉及一种光罩、基板及其制备方法,光罩包括阻光区、透光区以及部分透光区,部分透光区及阻光区通过透光区间隔,部分透光区允许部分紫外线透过,且包括第一部分透光区以及第二部分透光区,其中:第一部分透光区连接于透光区的边缘,且具有渐变紫外线透过率;第二部分透光区连接于第一部分透光区远离透光区的边缘,第二部分透光区具有固定紫外线透过率,以使得第二部分透光区对应的保护层的厚度均匀且小于透光区对应的保护层的厚度,从而形成不同厚度的保护层,而第一部分透光区连通透光区和第二部分透光区,从而能够使得保护层之间具有平滑坡度,提高视觉效果。 | ||
搜索关键词: | 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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