[发明专利]一种气浮轴承装置及光刻设备有效
| 申请号： | 202010367533.9 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113589651B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 王昱 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16C32/06;F16C32/04 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气浮轴承装置及光刻设备，其属于光刻技术领域，气浮轴承装置包括轴承本体和预载磁铁，轴承本体具有多个气浮面和中部区域，多个所述气浮面关于所述中部区域对称分布且与所述中部区域之间间隔设置形成缝隙；预载磁铁设于所述中部区域上。预载磁铁与气浮面之间的连接断开，在磁预载时，预载磁铁受到预载力，使得预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响。光刻设备包括上述气浮轴承装置。由于预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响，使得光刻设备的可靠性提高，加工精度较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 轴承 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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