[发明专利]基片载置台和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010376530.1 | 申请日： | 2020-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN111952140A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 上田雄大;广瀬润 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供基片载置台和等离子体处理装置。基片载置台在等离子体处理腔室中使用，其包括：具有销用贯通孔的主体，其中销用贯通孔具有带内螺纹的内壁；具有根端部分、中间部分和前端部分的升降销，升降销被插入销用贯通孔，中间部分带有外螺纹，带外螺纹的中间部分能够被拧入带内螺纹的内壁；以及使升降销相对于主体垂直地移动的移动机构。本发明能够抑制使用等离子体处理被处理体时发生的异常放电。 | ||
| 搜索关键词： | 基片载置台 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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