[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010377365.1 | 申请日： | 2020-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN111952141A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木芳彦;佐藤亮;山科井作 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体处理装置，能抑制排气口附近的异常放电。包括：处理容器、载置台、气体供给机构、排气机构、等离子体生成机构以及偏压电力供给机构。处理容器收纳基板。载置台设于处理容器内，载置基板。气体供给机构向处理容器内供给处理气体。排气机构经由排气管将处理容器内的气体排出。等离子体生成机构使供给到处理容器内的处理气体等离子体化从而在处理容器内生成等离子体。偏压电力供给机构向载置台供给偏压用的高频电力。在与处理容器的壁部连接的排气管的排气口设有网构件，该网构件由导电性的构件构成，并与接地电位连接。网构件形成有在网构件的厚度方向上贯通的多个贯通孔。网构件的厚度与各贯通孔的开口的宽度之比为0.67以上。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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