[发明专利]一种用于成像和治疗的过氧化氢响应性化合物及其合成方法有效
| 申请号： | 202010378023.1 | 申请日： | 2020-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN111635389B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 张建祥;闫新豪;郭嘉伟;吴鹏;李兰兰;窦寅 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军陆军军医大学 |
| 主分类号： | C07D311/72 | 分类号： | C07D311/72;C07D519/00;C07D211/94;C07C69/36;C07C67/14;C07H19/073;C07H1/00;C07F5/02;C07C69/86;C07C67/31;C07C201/12;C07C205/43;A61K49/00;A61K |
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| 地址： | 400038 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于成像和治疗的过氧化氢响应性化合物及其合成方法。该响应性化合物的化学结构如下图所示。本发明还提供了该类过氧化氢响应性化合物的合成方法：将单羟基化合物和草酰氯在含有缚酸剂的有机溶剂中反应，即得到过氧化氢响应性化合物。该类响应性化合物的合成方法简单，易于规模化合成；且可通过不同方法制备成纳米粒，其辅助化学发光特性具有过氧化氢响应性；当单羟基化合物为小分子药物时，可得到过氧化氢响应性前体药物，用于制备炎症和氧化应激损伤相关疾病及过氧化氢高表达肿瘤防治的纳米药物；该类过氧化氢响应性化合物具有良好的体内安全性。 |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 成像 治疗 过氧化氢 响应 化合物 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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