[发明专利]一种恩格列净异构体杂质的合成方法在审
| 申请号： | 202010378750.8 | 申请日： | 2020-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN113620938A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 梁飞;郑祖爽;宋启义;李成云;高书军 | 申请（专利权）人： | 北京康派森医药科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D407/12 | 分类号： | C07D407/12 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 陈玉平;黄海丽 |
| 地址： | 102600 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种式I‑1或I‑2的化合物的合成方法，所述式I‑1或I‑2的化合物为恩格列净在合成过程中产生的间位和邻位异构体。本发明公开的合成方法放弃了傅克酰基化的思路，巧妙地找寻到了合适的起始物料间溴氟苯或邻溴氟苯，用溴苯的锂化作为亲核试剂，和醛类化合物做亲核加成反应。本发明的制备方法反应路线较短、操作简单、产品纯度和收率较高、适合大规模生产，对研究和控制恩格列净的质量具有重要意义。 |
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| 搜索关键词： | 一种 恩格列净异构体 杂质 合成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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