[发明专利]恒磁场结构有效
| 申请号： | 202010380005.7 | 申请日： | 2020-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN111584181B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 沈旭东;赵艳珩;王鹏康 | 申请（专利权）人： | 安徽华东光电技术研究所有限公司 |
| 主分类号： | H01F7/02 | 分类号： | H01F7/02;H01J23/087 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 朱顺利 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种恒磁场结构，其特征在于：包括相对布置的第一磁体和第二磁体，第一磁体和第二磁体之间具有距离，第一磁体和第二磁体之间形成容纳工作件的恒磁场区。本发明的恒磁场结构，可以有效地为行波管、速调管、返波管等带状电子注聚焦同时也可以为圆柱形等形状的电子注聚焦。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 结构 | ||
【主权项】：
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