[发明专利]N-Si基板的抛光工艺在审
申请号: | 202010381709.6 | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN111531412A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 黄安基;黄荣厦 | 申请(专利权)人: | 福建省南安市宏炜新材料有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B08B3/12;H05K3/00 |
代理公司: | 温州联赢知识产权代理事务所(普通合伙) 33361 | 代理人: | 吴娇 |
地址: | 362300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明公开了N‑Si基板的抛光工艺,包括如下步骤:A、粗抛光;B、精抛光;C、化学机械抛光;D、对N‑Si基板进行进行切割;E、将基板放置于装有丙酮溶液的烧杯中;F、将基板放置于装有甲醇溶液的烧杯中;G、将N‑Si基板放置于装有去离子水的烧杯中;H、检查基板表面是否有残留物;I、使用氮气将基板表面吹干,放置烤箱中烘烤10分钟,即完成抛光工艺。本发明中,采用PH为9.5,浓度为15%,粒径为30nm的硅溶液,以H |
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搜索关键词: | si 抛光 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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