[发明专利]掩膜板有效
申请号: | 202010383667.X | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN111443566B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 邹佳滨;尹晓峰;田春光;文娜 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/38 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种掩膜板,属于显示技术领域。该掩膜板包括沿第一方向设置的第一拼接曝光区域和第二拼接曝光区域;第一拼接曝光区域沿第一向量平移后能够与第二拼接曝光区域重合;掩膜板包括设于第一拼接曝光区域的第一拼接遮光条和对应设于第二拼接曝光区域的第二拼接遮光条;第一拼接遮光条在第一方向上贯穿第一拼接曝光区域;第二拼接遮光条在第一方向上贯穿第二拼接曝光区域;第一拼接遮光条和对应的第二拼接遮光条中,一个的宽度等于目标宽度,另一个的宽度大于目标宽度;第一拼接遮光条的图案沿第一向量平移后能够形成第一辅助拼接图案;第一辅助拼接图案与第二拼接遮光条完全交叠。利用该掩膜板进行拼接曝光时,能够提高显示面板的均一性。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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