[发明专利]一种功率半导体器件及其边缘终端区结构和加工方法在审

专利信息
申请号: 202010393048.9 申请日: 2020-05-11
公开(公告)号: CN111446290A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 李燕;陈译 申请(专利权)人: 厦门理工学院
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L27/02;H01L21/71
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 郭福利
地址: 361024 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种功率半导体器件及其边缘终端区结构和加工方法,涉及功率半导体领域。该边缘终端区包括:背面金属电极层;N+衬底,邻接于所述背面金属电极层上方;N型外延层,邻接在所述N+衬底上方;p掺杂场环,设置于所述N型外延层上表面;浮游p层环,设置于N型外延层内,在N型外延层内纵向延伸,以延展空间电荷层的纵向深度,减小外加电场强度;绝缘场板,设置于所述p掺杂场环上方;表面金属电极层,设置于所述绝缘场板和所述p掺杂场环的上方。添加浮游p层环,其在N型外延层内纵向延伸,使空间电荷层边界在向外周扩张时更向纵向延伸,不用增加边缘终端区面积,而能提高边缘终端区的耐电压能力,有利于功率半导体器件的微小化。
搜索关键词: 一种 功率 半导体器件 及其 边缘 终端 结构 加工 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门理工学院,未经厦门理工学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010393048.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top