[发明专利]光刻胶剥离液及剥离装置在审
| 申请号： | 202010393455.X | 申请日： | 2020-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN111474832A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 任学超 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 吕姝娟 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶剥离液及剥离装置；所述光刻胶剥离液包括化合物A，通过采用化合物A，所述光刻胶剥离液能溶解基板上的光刻胶同时并保障其能被水洗除去；所述剥离装置包括依次对基板进行一次剥离、二次剥离及水洗的剥离单元、过渡单元及水洗单元，其中所述过渡单元的内设置有用于二次剥离过程的本发明所述的光刻胶剥离液；本发明所述剥离装置能实现对基板的剥离和水洗的双重功效。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 装置 | ||
【主权项】：
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