[发明专利]基于pn结和肖特基二极管的半浮栅存储器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010400726.X 申请日: 2020-05-13
公开(公告)号: CN111540740B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 朱宝;陈琳;孙清清;张卫 申请(专利权)人: 复旦大学;上海集成电路制造创新中心有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于集成电路存储器技术领域,具体为基于pn结和肖特基二极管的半浮栅存储器及其制备方法。本发明公开的半浮栅存储器,是在浮栅晶体管内部同时嵌入pn结和肖特基二极管,分别作为电荷擦写的通道;pn结具有整流特性,即正向导通、反向截止,而且开启电压非常小;利用pn结作为电荷擦除的通道,可以极大提高擦除速度;肖特基二极管同样具有整流特性,而且开启电压也非常小;利用肖特基二极管作为电荷写入的通道,可以极大提高电荷写入速度。
搜索关键词: 基于 pn 肖特基 二极管 半浮栅 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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