[发明专利]曝光装置、曝光方法、决定方法和物品制造方法在审
申请号: | 202010410612.3 | 申请日: | 2020-05-15 |
公开(公告)号: | CN111948910A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 八讲学 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 汪晶晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了曝光装置、曝光方法、决定方法和物品制造方法。曝光装置包括照明光学系统和用于利用来自照明光学系统的光形成投影图像的投影光学系统。照明光学系统在该照明光学系统的光瞳平面上形成包括第一区域和第二区域的发光区域。从包括由来自第一区域的第一光形成的第一图像和由来自第二区域的第二光形成的第二图像的图像合成投影图像。第一光和/或第二光是宽带光。第二图像中由散焦引起的线宽的增加/减小变化相对于第一图像中由散焦引起的线宽的增加/减小变化具有不同的符号,并且通过合成第一图像和第二图像而获得的图像中由散焦引起的线宽的增加/减小变化减小。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 决定 物品 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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