[发明专利]消磁装置及半导体加工设备有效
| 申请号： | 202010412900.2 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111554470B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 邱赛舟;马恩泽 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01F13/00 | 分类号： | H01F13/00;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种消磁装置及半导体加工设备，该消磁装置用于消除半导体加工设备的反应腔室周围的环境磁场，且包括：电磁主体，围绕在反应腔室周围，用于产生补偿磁场；磁场传感器，设置在电磁主体与反应腔室之间，用于检测环境磁场的实时数据；以及控制模块，用于接收磁场传感器发送的实时数据，并根据实时数据调节补偿磁场的大小和方向，以使补偿磁场与环境磁场的大小相同，且方向相反。本发明实施例，可以通过感知反应腔室周围环境的环境磁场，提供一个与之大小相同，且方向相反的补偿磁场，从而可以抵消环境磁场，改善磁场屏蔽效果，进而改善环境磁场对工艺均匀性带来的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 消磁 装置 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
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