[发明专利]有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物在审
申请号: | 202010413700.9 | 申请日: | 2020-05-15 |
公开(公告)号: | CN111948903A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 郡大佑;中原贵佳;泽村昂志;佐藤裕典;山本靖之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/11;G03F7/09;C08G61/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物,其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物,会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性,并提供使用其的图案形成方法及适合其的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)或(1B)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。 |
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搜索关键词: | 有机 形成 组成 图案 方法 以及 聚合物 | ||
【主权项】:
暂无信息
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