[发明专利]有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物在审

专利信息
申请号: 202010413700.9 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111948903A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 郡大佑;中原贵佳;泽村昂志;佐藤裕典;山本靖之 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/11;G03F7/09;C08G61/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物,其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物,会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性,并提供使用其的图案形成方法及适合其的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)或(1B)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。上述通式(1A)中,Ar1、Ar2表示也可以有取代基的苯环或萘环,X为单键或亚甲基,L为下列中的任一者;上式中的破折线代表价键,R为氢原子或碳数1~20的1价有机基团。上述通式(1B)中,W1为羟基、碳数1~10的烷氧基或也可以有取代基的具至少1个以上的芳香环的有机基团,Ar1、Ar2、X、L同前所述。
搜索关键词: 有机 形成 组成 图案 方法 以及 聚合物
【主权项】:
暂无信息
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