[发明专利]曝光装置及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202010417810.2 | 申请日： | 2020-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111983897A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 桥本明人;赤松昭郎 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人： | 迟军 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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