[发明专利]一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法有效
| 申请号： | 202010418357.7 | 申请日： | 2020-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111560589B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 夏原;李光 | 申请（专利权）人： | 中国科学院力学研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明提供一种应用于钕铁硼的低锰含量非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法，制备铝锰‑稀土以作为复合靶材；先对钕铁硼磁材进行研磨清洗和真空离子轰击清洗；磁材温度降低至120～150℃，调整真空室内氩气流量至工作真空度0.3～0.8Pa，开启脉冲电源且与靶材基距为60～100mm，负偏压为50‑150V，峰值功率密度为500～800W/cm |
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| 搜索关键词： | 一种 应用于 钕铁硼 非晶铝锰 涂层 hipims 制备 方法 | ||
【主权项】：
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