[发明专利]非接触式抛光装置在审
申请号: | 202010420327.X | 申请日: | 2020-05-18 |
公开(公告)号: | CN111451918A | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 文东辉;沈思源;章益栋;王辉;许鑫祺 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/04;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/20;B24B47/22;B24B57/02 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 周雷雷 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及非接触式抛光装置,包括机座;还包括电机、抛光辊子、用于调节工件进给的直线往复进给机构、用于调节流体的抛光间隙的纵向微调机构、确保工件处于抛光辊子高度以内的竖直升降机构及主轴系统;机座上安装有电机板,电机安装于电机板;主轴系统安装于机座并由电机传动驱动,主轴系统包括辊子托座,抛光辊子安装于辊子托座。该抛光装置通过设置直线往复进给机构、纵向微调机构及竖直升降机构,直线往复进给机构精确、匀速、稳定,有利于减小加工件表面波纹的产生,纵向微调机构精度高,可以在较大范围内调节抛光间隙,满足不同需求下的加工条件。 | ||
搜索关键词: | 接触 抛光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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