[发明专利]金属掩膜装置在审

专利信息
申请号: 202010420506.3 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111485195A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 何仕 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请实施例提供了一种金属掩膜装置,包括:掩膜板以及设置于所述掩膜板的背面上的掩膜条;所述掩膜板上开设有多个开口,所述掩膜板上与所述掩膜条连接的一面上开设有多个与所述开口连通的第一导流槽,所述掩膜条将部分第一导流槽的局部覆盖。本申请实施例提供的金属掩膜装置通过采用该多个第一导流槽将掩膜板与掩膜条的连接处的清洗残留液排出到开口中,以便于对金属掩膜装置的清洗的效果,从而避免未清洗干净的金属掩膜装置对蒸镀操作的影响,从而可以提高OLED显示面板的品质。
搜索关键词: 金属 装置
【主权项】:
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